光刻技术是推动芯片制造进步的核心力量，而荷兰公司阿斯麦（ASML）目前是全球唯一一家能够生产极紫外（EUV）光刻设备的企业。近日，白宫人工智能与加密事务主管戴维·萨克斯在社交媒体上表示，限制向中国出口EUV设备是美国在半导体领域实施的“最重要出口管制”。
萨克斯指出，这项限制政策始于特朗普政府时期，持续执行这一政策至关重要。ASML的EUV光刻机是制造全球最先进芯片所必不可少的设备，它利用光束精确绘制芯片电路。这些高端芯片的应用范围从电动车到军事装备，涵盖多个领域。
目前，ASML的第一代EUV系统已被广泛应用于智能手机和人工智能芯片的生产，其光束波长达到极紫外，能够实现低至13纳米的分辨率，甚至小于病毒的尺寸。美国政府则一直与日本、荷兰等盟友合作，确保这些先进设备不被中共获取。
美国官员明确表示，他们的目标是限制中共在先进半导体制造方面的技术进步，认为这类技术对中共的军事现代化至关重要，尤其是在中共对台湾的武力威胁仍未放弃的背景下。美国希望通过这一政策防止中共对台湾的攻击，因为台湾在全球产业链中扮演了重要角色，一旦发生冲突，将对世界经济造成不可估量的损害。
白宫官员强调，这些限制措施是必要的，以阻止中共军队的现代化和新武器的开发，同时遏制其监控网络的扩张。事实上，中共的监控系统已成为全球最复杂的网络之一。
早在1996年，美国带头与多个西方国家签署了《瓦森纳协议》，限制对华出口高精尖技术，荷兰也是协议的签署国之一。在美国的压力下，自2019年以来，ASML向中国出口EUV设备的申请未能获得荷兰政府的批准，未来的限制措施将进一步收紧对中国的销售。
EUV光刻机的元件几乎全部来自《瓦森纳协定》签署国，因此美国能够在各个环节干预交易，这使得中共绕过国际限制进口EUV光刻机变得异常困难。
ASML首席执行官克里斯托夫·富凯在接受采访时表示，由于中国公司无法获得尖端EUV光刻工具，中共的芯片制造技术仍落后于英特尔、台积电和三星等行业巨头10至15年。即使拥有一流的深紫外（DUV）工具，中芯国际等中国芯片制造商也难以在经济效益上与台积电的技术相抗衡。
富凯指出：“通过禁止出口EUV，中国的芯片技术将落后西方10到15年，这一措施的影响是显而易见的。”